随着三星和SK海力士开始使用EUV光刻机进行闪存内存芯片的生产，美光科技也计划加入这一行列，正在与ASML进行谈判以采购EUV光刻机，预计将在2024年推出新型EUV内存芯片。
美光的总裁兼首席执行官桑杰·梅赫罗特拉在最近的财报会上表示，公司一直在关注EUV工艺的发展，并且此前已经参与了EUV技术的评估。一旦EUV平台及其生态系统达到成熟阶段，美光将把EUV光刻技术纳入其产品发展计划中。
美光已将2021财年的收入预期略微上调至95亿美元，并开始与ASML洽谈EUV光刻机的购买事宜，尽管目前尚未披露具体细节。由于EUV设备供应紧张，台积电和三星的采购量较大，美光仍需稍作等待。
根据美光的计划，EUV光刻工艺预计将在2024年引入，首批将应用于1-GaMa工艺的内存芯片，未来还将扩展到更先进的1-Delta工艺内存芯片。
在最近发布的2021财年第三季度财报中，美光报告截至6月3日的季度营收为74.2亿美元，同比增长19%；净利润为17.4亿美元，相比去年同期的8亿美元大幅增长116%。
