据证券时报报道，荷兰光刻机制造商ASML于3月9日上午发布声明，表示预计将需要申请许可证才能出口DUV设备。
公司进一步指出：“新的出口管制措施并不涵盖所有浸润式光刻系统，较低先进程度的浸润式光刻系统已能满足以成熟制程为主的客户需求。”
在此之前，荷兰政府于3月8日宣布计划对半导体技术的出口实施新管制，预计这些措施将在今夏之前开始生效。
ASML的声明中提到：
荷兰政府今日发布了关于即将实施的半导体设备出口管制措施的进一步信息。这些新措施主要针对先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。
鉴于这些即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证方可发运最先进的浸润式DUV系统。
这些管制措施的立法和生效需要一定时间。
基于今日的公告、我们对荷兰政府许可证政策的预期以及当前市场形势，我们预计这些管制措施不会对我们已发布的2023年财务展望及去年11月投资者日所宣布的长期展望产生重大影响。
需要特别强调的是：新的出口管制措施并不适用于所有浸润式光刻系统，而仅限于所谓“最先进”的浸润式光刻系统。尽管我们尚未收到有关“最先进”的确切定义，我们将其理解为在资本市场日会议上所定义的“关键浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。
此外，值得注意的是，先进程度较低的浸润式光刻系统已能有效满足以成熟制程为主的客户需求。最后，ASML的长期展望基于全球长期需求和技术趋势，而非对特定地区的预期。
自2019年以来，ASML的EUV光刻系统已受到限制。
