据外部消息源报道，某研究机构在《2023年全球光刻胶市场分析》报告中指出，2023年半导体光刻胶市场的销售收入同比预计下降6-9%。
随着下游客户库存持续改善、产能利用逐步恢复，以及人工智能和智能汽车等应用场景的成熟和快速增长，业界普遍预计2024年将迎来复苏。光刻胶市场也有望反弹，市场规模有望回到2022年的历史高点，并在此基础上进一步增长，预计到2027年将超过28亿美元。
核心材料与应用
光刻胶，又称光致抗蚀剂，是在通过紫外光、电子束、离子束或X射线等辐照后，其溶解度发生变化的耐蚀性薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，广泛应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等微细图形加工。当前市场对高端光刻胶的需求持续存在，支撑其在先进制程中的关键作用。
目前，光刻胶市场主要由若干大型制造商主导，其中日本制造商的供应份额约占80%左右。在EUV、ARFi/ARF等前沿光刻胶领域，JSR、TOK和信越化学等日本企业具有显著优势。
此前在12月初发布的行业分析还指出，全球光刻胶价格上涨给半导体行业带来挑战。报道显示，由于原材料与劳动力成本上升，一些供应商计划提高对韩国半导体企业的光刻胶价格，涨幅大致在10%到20%之间，具体数值因产品种类而异。
