中芯国际计划与阿斯麦谈判EUV光刻设备

12月19日消息，据国外媒体报道，晶圆代工企业中芯国际（SMIC）正在积极寻求获取关键的极紫外（EUV）光刻设备，以便开发7纳米及以下的制程技术。

业内人士指出，得益于新任副董事长蒋尚义的支持，中芯国际正在与荷兰半导体设备制造商阿斯麦（ASML）进行EUV光刻设备的谈判。

据悉，中芯国际计划使用EUV光刻机来生产基于7纳米及以下制程技术的芯片产品。最近的报道显示，该公司已经从20纳米工艺成功过渡到3纳米工艺，唯一缺失的就是EUV光刻机。一旦获得该设备，中芯国际便能够实现3纳米芯片的量产。

阿斯麦总部位于荷兰费尔德霍芬，其生产和研发设施分布在康涅狄格州、加州、中国台湾及荷兰，同时在日本、韩国、荷兰、中国台湾和美国设有科技发展中心和训练设施。

该公司为全球主要半导体制造商提供服务，生产广泛应用于电力电子、通信及信息技术产品中的芯片。

目前，只有阿斯麦具备制造极紫外光刻机的能力。三星电子、英特尔和台积电等知名企业均已采购了该公司的极紫外光刻设备。调查公司OMdia在今年4月发布的数据显示，阿斯麦去年交付了26台极紫外光刻机，其中约一半是提供给大客户台积电。

不过，有报道称，中芯国际在从阿斯麦获取极紫外光刻设备方面面临困难。尽管阿斯麦在法律上并未受到特定限制，但仍然存在一定的顾虑。

中芯国际及其控股子公司是提供0.35微米到14纳米不同技术节点晶圆代工与技术服务的集成电路晶圆代工企业之一。

此外，美国商务部于昨日发布公告，宣布将中芯国际列入实体名单，限制其获取美国关键技术的能力。

根据美国商务部的声明，列入实体名单后，美国出口商需申请许可证才能向中芯国际销售相关产品。