又一家国内企业在光刻胶领域取得了新进展。上海新阳于6月30日盘后发布公告，宣布其自主研发的KRF（248nM）厚膜光刻胶已成功通过客户验证，并获得了首笔订单。相关负责人表示，这一产品的开发及其产业化是公司在光刻技术方面的第三大核心技术之一，首笔订单的获得标志着该产品即将进入产业化阶段。
在全球持续的缺芯潮背景下，晶圆代工厂的扩产势头已经传导至产业链的上游。然而，光刻胶作为半导体光刻工艺的关键材料，目前依然存在较大的供应缺口。
目前，国产光刻胶与国际品牌相比差距明显。用于生产6英寸硅片的g/i线光刻胶的自给率仅为20%，而8英寸硅片的KRF光刻胶自给率更不足5%，制程更高的ARF和EUV胶则尚未实现量产，中高端光刻胶市场几乎被海外巨头垄断。
早前，福岛地震对全球光刻胶市场造成了一定影响，作为行业龙头之一的日本信越化学因此限制了对中国市场的KRF光刻胶出口，这进一步加剧了国内光刻胶的供需紧张。目前，国内只有彤程新材的子公司北京科华实现了KRF光刻胶的量产，年产能约为10吨。
供应限制和短缺也加速了光刻胶在本土下游晶圆厂的验证进程。除了上海新阳，南大光电近期也成功研发出ARF光刻胶，并通过第二家客户的验证，获得了小批量订单；晶瑞股份的KRF光刻胶也进入了客户验证的最后阶段。据业内人士透露，光刻胶研发投产后，通常需要12至18个月的客户验证周期。
在国产化的良好机遇推动下，相关公司正在加大对半导体光刻胶研发和产能建设的投入。上海新阳和晶瑞股份在今年上半年购入了ASML光刻机，以支持湿法ARF光刻胶的研发；彤程新材则在5月发布公告，称其子公司彤程电子投资5.7亿元在上海建设年产1.1万吨的半导体及平板显示用光刻胶和2万吨相关配套试剂的项目。
