美光科技计划在2024年引入极紫外光刻机用于部分工艺节点

据国外媒体报道，在2021财年第三财季的财报分析师电话会议上，美光科技的CEO兼总裁Sanjay MehRotRa透露，公司计划引入极紫外光刻机，以支持部分工艺节点的制造工艺。

从Sanjay MehRotRa在会议中的发言来看，美光科技预计在2024年将在部分工艺节点上部署极紫外光刻技术，随后逐步扩大应用范围至更多工艺节点。

他还表示，公司一直密切关注极紫外光刻机的技术进展，并在评估其引入的可能性。

实际上，美光科技此前已多次提及引入极紫外光刻机的计划。Sanjay MehRotRa在会议中指出，只有当极紫外光刻平台和生态系统达到一定成熟度时，公司才会选择在合适的时机引入这种设备。

值得注意的是，美光科技并非首家采用极紫外光刻技术的存储芯片制造商。比如，SK海力士已在其M16工厂安装了极紫外光刻机，并于今年2月份开始试生产1αM的DRAM，预计将在今年7月实现大规模量产。