上海微电子展示新一代前道干式光刻机平台模型，适配 I-line 与 KrF 路线

据 IT之家 11 月 8 日报道，在 11 月 5 日于上海开幕的第九届中国国际进口博览会上，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）展示了自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型。此次展示聚焦国产前道光刻装备的系统架构与关键模块，呈现了相关装备自主化的阶段性进展。需要明确的是，本次亮相的是技术平台模型，而非新机型现场交付或投产公告。

通用平台亮相，重点是整机系统协同

此次展出的模型采用透明剖视设计，将光学光路以及内部机电系统的连接布局直观呈现出来。相比单独展示某个零部件，这种方式更强调光刻机作为复杂装备的整体性：光学、运动控制、物料传输与测量系统，需要围绕曝光流程精密配合。

据来源介绍，该平台采用国产标准化前道光刻装备架构，适配 I-line、KrF 两类技术路线。其核心模块包括：

• 高精度物镜与照明系统，承担曝光成像相关任务。
• 高速双工件台与掩模台，服务于精密运动及作业协同。
• 一体化自动物料传输系统，连接设备内部的物料处理流程。
• 高精度对准调平传感系统，为曝光位置与状态控制提供支持。

来源称，上述核心系统已实现全链条自主可控，并具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。对于半导体设备而言，关键模块可控与整机长期稳定运行，是两项需要同时验证的能力，不能仅凭模型展示判断全部产业化进度。

产线数据比模型更值得关注

据报道，国产前道干式光刻机的成像性能已达到国际同类领先产品相当水平，套刻精度和生产效率仍在追赶国际标杆。这里的比较对象是“同类产品”，不宜扩展理解为所有技术路线的光刻设备。

来源同时披露，多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超过千万片，设备有效运行率超过 92%。这些数据反映的是已有国产前道干式光刻设备的应用情况，不应直接等同于本次新平台的独立量产成绩。不过，相比单一实验指标，持续运行和工艺适配经验，更能体现设备进入制造流程后的实际价值。

产业解读：成熟制程装备的自主供给继续推进

理解此次展示，首先要区分技术边界。前道光刻机用于晶圆制造，与封装环节使用的后道光刻设备不同；本次平台适配的 I-line 与 KrF，主要面向成熟制程，也不能与 ArF 浸没式等路线混为一谈。

其产业意义在于，通用化、标准化架构有望为不同工艺需求下的设备适配提供基础。双工件台则通过让曝光与曝光前准备并行开展，改善设备作业节拍，是提升产能的重要技术方向。对晶圆厂而言，设备价值不仅取决于能否完成曝光，还取决于效率、套刻表现和运行稳定性能否持续满足生产要求。

上海微电子成立于 2002 年。据来源介绍，其是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商。此次展示释放的信号，是国产装备正进一步围绕平台架构、核心系统和量产应用积累能力。后续更值得关注的，仍是具体机型的工艺验证、交付表现，以及在实际产线中的持续运行结果。