北方华创近日在北京亦庄基地举行了ICP等离子刻蚀机第1000腔的交付仪式，NAURA刻蚀机研发团队共同见证了这一具有里程碑意义的时刻。
公司指出，这一成就不仅是其发展历程中的重要节点，更是国产刻蚀机经过20年自主创新后获得客户广泛认可的重要象征。未来，北方华创将继续在等离子刻蚀ICP技术领域探索更多的创新与突破。
北方华创科技集团股份有限公司成立于2001年，由北京七星华创电子股份有限公司与北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司进行战略重组而成，现已成为国内集成电路高端工艺装备的领先企业。
自成立以来，北方华创便着手组建团队专注于刻蚀技术的研究，2004年成功推出了第一台设备，2005年第一台8英寸ICP刻蚀机在客户现场投入使用，并在2007年获得国家科学技术进步二等奖。
现阶段，北方华创的刻蚀设备已广泛应用于集成电路、LED、先进封装、功率半导体、MEMS微机电系统、化合物半导体、硅基微显、分析仪器、功率器件以及光通信器件等多个领域，硅刻蚀机技术已突破14nm，逐步进入主流芯片代工厂。
其中，12英寸ICP刻蚀机在28nm国产化替代方面取得了显著成效，并在14/7nm SADP/SAQP、先进存储器以及3D TSV等工艺应用中发挥了重要作用。
等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的先进工艺，具备优良的各向异性和工艺可控性，广泛应用于微电子产品的制造。
在这一典型的干法刻蚀过程中，反应腔室中会混合一种或多种气体原子或分子，在外部能量的作用下生成等离子体。
此外，许多人可能会混淆光刻机与刻蚀机的功能。光刻机负责将电路图案投影到涂有光刻胶的硅片上，而刻蚀机则是将硅片上多余的电路图案去除。
可以将光刻机比作照相机，而刻蚀机则类似于显影设备。
